一品中文网

手机浏览器扫描二维码访问

第277章 情绪点兑换 光刻机双工件台与照明系统初步原理（第1页）

深夜，香港浅水湾別墅的书房里，只有檯灯亮著一圈昏黄的光。

王恪面前的笔记本摊开著，上面是龙芯量產遇到的各种工艺问题：东芝的1.2微米產线良率始终卡在70%，无论如何优化都上不去。

张维从东京发回的报告里写得很清楚：“不是设计问题，是製造问题。

我们的设计已经做到1微米以下的理论极限，但东芝的產线只能稳定做1.5微米，1.2微米已经是超频运行。”

问题归根结底是设备。

光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备……这些核心装备，中国造不了，日本也造不了最好的——最好的在荷兰asml，在美国应用材料，在德国蔡司。

而这些公司对中国有出口限制，就算能买到，也是落后两代的產品。

王恪放下笔，揉了揉发胀的太阳穴。

窗外的海一片漆黑，只有远处灯塔有规律地闪烁。

他调出系统界面。

自从“崑崙”

项目成功，情绪点又涨了一大波，现在余额是：1，287，654点。

主要来自航天和军工部门的认可，来自高校师生的感激，来自明远员工的自豪。

足够兑换很多东西了。

他搜索“光刻机”

。

列表弹出，价格高得嚇人：

【接触式光刻机基础原理（1970年代水平）：50，000点】

【接近式光刻机技术详解（1980年代主流）：150，000点】

【步进式光刻机核心技术（超前5年）：500，000点】

【浸润式光刻机概念雏形（超前10年）：1，200，000点】

【极紫外（euv）光刻技术前瞻（超前20年）：5，000，000点（需前置知识解锁）】

王恪的目光落在第三项：“步进式光刻机核心技术”

。

这是未来十年的主流技术，能把晶片工艺推进到0.5微米甚至0.35微米。

但五十万点，几乎是他现有点数的一半。

他往下翻，看到了更细分的选项：

【光刻机双工件台设计原理：180，000点】

【光刻机照明系统与光源技术：120，000点】

【光刻机物镜系统与像差校正：200，000点】

【光刻机对准与测量系统：100，000点】

【光刻机控制系统与软体：80，000点】

就像买车，整车买不起，可以先买零件。

王恪盯著“双工件台”

和“照明系统”

这两项。

双工件台是步进式光刻机的核心创新——一个台子在曝光，另一个台子在对准和测量，交替工作，大幅提高生產效率。

照明系统则决定了光刻的解析度和精度。

两者加起来三十万点，还在承受范围內。